光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是芯片制造的核心裝備。其工作方式是通過光的作用，將掩模版上的電路圖形投影到產品表面光刻膠上，然后顯影出圖形，最后經過蝕刻、離子植入等制程定型形成有效的電路。
三類光刻機的對比
LED生產用接近式光刻機工藝流程
全自動Mask Aligner光刻機設備
適用于半導體、LED、Mini/Micro LED、5G通訊、新型光學器件、MEMS、PCB、化合物半導體、光伏、功率器件等行業。
● 三高：高分辨率、高精度套刻、高產能，全自動雙工位運行；
● 高效的自動對準，客制化操作界面及功能；
● 實時光強監控，電機驅動式光源調節系統；
● 模塊化設計，定制化生產，可選高壓汞燈/UVLED、自動/手動、單工位/雙工位、雙面曝光、卷對卷曝光等。
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大族半導體將依托現有的技術積累，持續對產品進行提升和優化，提升光刻設備的品質和性能，推動產業的優化升級，為提升國產裝備市場競爭力添磚加瓦。
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