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刻蝕機

設備型號：ET12-XS2E2S1A

應用范圍：化合物半導體、功率器件、MEMS、先進封裝、射頻集成電路




主要特點：

設備特點：

1、利用位置、速度可控的擺臂噴灑化學液，可以有效的提高刻蝕均勻性

2、分層式反應腔體設計，可以在同一腔體中噴灑多種化學液，并能有效回收，節約化液

3、疊層控制，占地面積小，最多可配置4個刻蝕單元



主要參數:


主要參數

片盒數量

2CS&2LP

配置

4 Etch unit

wafer 類型

圓片

wafer 尺寸（mm）50-300
產能（WPH）90
化學藥液

H2O2、強酸堿

襯底材料Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTaO3、Li3PO4
適用工藝Wet Etch
干燥模式Spin Dry+N2 Dry



歡迎來電咨詢

400-666-4000

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