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前道涂膠顯影機

設備型號:CD12-XC6C6D1A

應用范圍:化合物半導體、功率器件、MEMS、射頻集成電路、LED




主要特點:

設備特點:

1、堆疊式高產能架構,占地面積小

2、配備多段回吸的多腔體共用供膠系統,有效節省光刻膠的用量

3、選配高精度熱板、WEE、AOI等單元部件,滿足更高標準工藝需求

4、核心單元模塊化設計,組合方式靈活多變,最大限度客制化

5、滿足工廠FA自動化需求

6、可以與主流光刻機聯機






主要參數:


主要參數

片盒數量

4LP

wafer 類型

圓片

wafer 尺寸(mm)200,300
產能(WPH)120
襯底材料Si、Glass
適用工藝PI、I- line、Barc、SOG、SOC、KrF



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