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緊湊型涂膠顯影機

設備型號：CD06-XS1C1D1A

應用范圍：化合物半導體、功率器件、MEMS、射頻集成電路、LED、科研項目、光學器件




主要特點：

設備特點：

1、占地小、穩定性高、操作與維護方便

2、易于操作，界面友好

3、保養維護方便





主要參數:


主要參數

片盒數量

2CS

wafer 類型

圓片

wafer 尺寸（mm）50-150
產能（WPH）50
襯底材料Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTaO3、Li3PO4
適用工藝g-line、i- line、PI



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400-666-4000

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